光刻機板塊表現活躍，相關零部件產商迎國產替代機遇

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近期市場反彈效應漸顯，作為「卡脖子」核心環節的光刻機板塊亦表現活躍，11月9日，炬光科技（688167.SH）、富樂德（301297.SZ）漲20%，海立股份（600619.SH）漲停10%，藍英裝備（300293.SZ）等跟漲。

阿斯麥中國業務韌性十足，概念股大漲

消息面，截至9月30日的前三季度，荷蘭光刻機巨頭阿斯麥（ASML）全球淨銷售為203.21億歐元，來自中國區的就有52.67億歐元，佔比25.91%。

阿斯麥的全球高級副總裁、中國區總裁沈波在進博會期間表示，今年阿斯麥中國的業務增長很快，預期全年中國區營收佔比超過20%，對明年中國區業務也非常的樂觀。

沈波表示：「我們2023年在中國的招聘是超過200人的，2024年我們預計業務的發展會繼續帶來很多需求，我們的團隊的擴充應該還會是一個相對比較大的規模。」

光刻機概念聞訊股紛紛上漲，背後的邏輯是在當前科技環境的背景下，國内晶圓廠擴產不止，上遊半導體設備維持高景氣度，尤其是光刻機需求迎來高速增長。

光刻機集精密光學、機械和控制、材料等眾多最尖端技術於一身，算是半導體制造過程中價值量和技術壁壘最高的設備之一，被譽為「半導體工業皇冠上的明珠」。

2022年全球晶圓前道設備銷售941億美元，光刻機佔17%，是IC制造的第三大設備，但卻是單機價值量最大的設備。據阿斯麥財報測算，2022年單台EUV價格約1.8億歐元，浸沒式DUV約6500萬歐元。

目前市場上的高端EUV光刻機設備主要荷蘭阿斯麥公司等所壟斷，中高端DUV光刻機阿斯麥公司亦掌握重要話語權。

根據中國海關總署數據，2022年中國大陸IC用光刻機進口金額共39.7億美元，其中荷蘭和日本的進口金額佔總金額的97%，且高端機台主要從荷蘭阿斯麥進口。

但在今年6月末，荷蘭政府發佈了有關半導體設備出口新規，該法規於今年9月1日生效。在最新法規中，除最先進的EUV設備外，部分DUV設備（即TWINSCAN NXT：2000i及後續推出的浸潤式光刻系統）也受限。

然而讓所有人都意外的是，9月份，荷蘭官方又發放光刻機年内發運許可，阿斯麥將能夠在2023年底前繼續向中國出口其NXT：2000i和更先進的DUV光刻設備。

背後的科技角逐和相關細節暫且不談，阿斯麥事實上一直在不斷地出貨，中國市場的重要性是不言而喻的。

據悉，到2023年底，阿斯麥在中國市場的光刻設備裝機量將突破1400台的門檻，而在2019年的時候，這個數據還只是接近千台。

產業鏈投資機遇一覽

危機暫緩，但未來光刻機仍存在隱憂。在此背景下，未來無論是整機自研配套零部件，或是備件更換都會更多依賴國内零部件供應商，光刻機上遊零部件企業迎機遇。

一台光刻機由三大核心系統和數萬個零部件組成，2022年阿斯麥供應商約5000家，合計供應鏈支出124億歐元，而2022年阿斯麥設備收入154億歐元，以此測算，上遊零部件成本佔比約56%。

上述零部件以歐洲為主導，部分美國、中國台灣的公司亦有參與，中航證券測算，若供應鏈實現國產替代，對應上遊零部件市場空間超150億元。財華社根據公開資料，梳理相關零部件企業如下：

奧普光電（002338.SZ）：旗下子公司禹衡光學是亞洲最具實力的光栅編碼器制造商，參與了多項行業標準的制定。公司持有禹衡光學65%的股權，並佈局超精尺方面的技術投入和研發，理論上可用於光刻機。

茂萊光學（688502.SH）：公司是國際先進精密光學綜合解決方案提供商，專注於精密光學器件，高端光學鏡頭和先進光學儀器的研發與制造。

今年上半年，公司半導體領域收入佔比約1/3，旗下半導體檢測設備光學模組供貨KLA、Camtek；光學透鏡供貨SMEE，為光刻機國產化提供了重要支撐。

美埃科技（688376.SH）：公司聚焦工業級超潔淨技術，覆蓋國内外半導體龍頭廠商，為國内光刻事業提供一臂之力。旗下半導體領域的產品包括風機過濾單元、過濾器等。風機過濾單元是潔淨室空氣淨化的關鍵設備，並搭配或内置超高效過濾器，提供穩定潔淨氣流。

公司客戶矩陣強大，覆蓋中芯國際、STM、Intel等國内外頭部半導體公司，2006年至今為中芯國際多地工廠供應FFU、過濾器等產品。

富樂德（301297.SZ）：公司已研發並量產半導體14nm制程洗淨工藝、儲備的半導體7nm部品清洗工藝已較為成熟。公司為光刻環節的溶膠顯影、塗膠等設備提供精密洗淨服務。

藍英裝備（300293.SZ）：公司精密清洗設備面向的高端芯片制造行業企業客戶包括光刻機制造企業的合資公司，該客戶負責制造光刻機的核心光學系統。

張江高科（600895.SH）：公司通過子公司上海張江浩成創業投資有限公司投資了上海微電子裝備有限公司約2.23億元，持有微裝公司10.779%的股權。公司投資上海微電子裝備、華勤通訊為代表的一批集成電路優質企業，實現「中國芯」國產光刻機的重大突破。

此外，光掩膜版作為半導體產業鏈的上遊核心材料之一，對於光刻工藝的重要性不弱於光刻機，目前國内廠商逐步縮小與海外龍頭企業的技術差距，相關廠商有望迎來業績的高速增長。

清溢光電（688138.SH）：公司已實現180nm工藝節點半導體芯片掩膜版的客戶測試認證及量產，同步開展130nm-65nm半導體芯片掩膜版的工藝研發和28nm半導體芯片所需的掩膜版工藝開發規劃。

結語——

光刻機仍是「卡脖子」的核心環節，但相關零部件產商的技術不斷突破，有望在未來國產替代的進程中分得一杯羹，投資機會或將不斷湧現。