【热点】从“卡脖子”到“破局”：光刻胶板块爆发的国产化逻辑

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经历近半个月的反复震荡后，A 股悄然逼近4000点，整体走势显著强于港股。这一表现背后，离不开算力龙头业绩超预期、CPO 板块获资金涌入等科技主线消息的积极催化。

当前，半导体等细分领域接棒发力，交投活跃度提升并带动板块上涨。其中，10 月 27 日，光刻胶板块的异动表现尤为活跃。

截至发稿，晶瑞电材（300655.SZ）涨超16%，艾森股份（688720.SH）涨超8%，江化微（603078.SH）、南大光电（300346.SZ）、彤程新材（603650.SH）、雅克科技（002409.SZ）等光刻机概念股跟涨。

与算力板块大涨逻辑相同，“消息面+业绩”催化，推动光刻胶概念板块大涨。

消息面，国家标准委网站显示，我国首个EUV光刻胶标准——《极紫外（EUV）光刻胶测试方法》作为拟立项标准，10月23日开始公示，截止时间为11月22日。

所谓光刻技术，是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。而光刻胶则是其中的重要半导体材料，可以简单理解为刻画电路的颜料。

据申港证券的研报，光刻是整个集成电路制造过程中耗时最长、难度最大的工艺，耗时占IC制造50%左右，成本约占IC生产成本的1/3。光刻胶是光刻过程最重要的耗材，光刻胶的质量对光刻工艺有着重要影响。

光刻胶技术壁垒较高，一直是国内半导体发展的关键“卡脖子”领域之一。全球光刻胶市场长期被东京应化、信越化学、JSR、富士胶片等国际巨头垄断。

近年来，我国加快半导体自主可控步伐，有分析指出，上述标准的制定填补了国内在该领域的技术标准空白，从长远来看，或进一步加速光刻胶领域的自主可控的进程。

政策层面，光刻胶国产化一直受到高层重视，《“十四五”原材料工业发展规划》就将光刻胶列入新材料突破重点品种。

值得注意的是，国内光刻胶产业链上下游多个环节也正实现技术的重大突破。

近日，北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者通过冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为，指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关论文近日刊发于《自然·通讯》。

业内专家认为，冷冻电子断层扫描技术为在原子/分子尺度上解析各类液相界面反应提供了强大工具。深入掌握液体中聚合物的结构与微观行为，可推动先进制程中光刻、蚀刻和湿法清洗等关键工艺的缺陷控制与良率提升。

据锐观产业研究院报告，2024年我国光刻胶市场规模增长至114亿元以上，预计2025年光刻胶市场规模可达123亿元。在政策的春风、以及产业端利好的推动之下，光刻胶领域呈现高速发展态势。

近期三季报陆续披露，不少光刻胶概念股亦公布前三季度成绩单，整体表现可圈可点。

其中，晶瑞电材公告称，公司第三季度实现营业收入4.19亿元，同比增长14.27%，归母净利润5861.50万元，同比大幅增长938.99%。前三季度公司实现营业收入11.87亿元，同比增长11.92%，归母净利润1.28亿元，同比增长19202.65%。公司表示，报告期内产品毛利上涨，交易性金融资产价格波动驱动业绩增长。

此外，瑞联新材、鼎龙股份预告前三季度归母净利润同比增长分别为51.54%、41.10%。鼎龙股份表示报告期内CMP抛光垫、CMP抛光液和清洗液、半导体显示材料三大新业务板块高速齐增，驱动公司业绩增长。

业绩的强势表现也进一步支撑了市场的炒作热情，叠加近期AI、半导体板块屡创新高，相关光刻胶概念集体飙涨，也在情理之中。