Gigaphoton出廠燒蝕通孔加工用300W KrF激光器「G300K」

運用了傳統技術的GIGANEX系列新産品、高輸出、高可靠性、低價格機型

栃木縣小山市 -- (美國商業資訊) -- 2020年4月14日、半導體光刻光源制造商Gigaphoton株式會社（總部：栃木縣小山市、董事長兼總經理：浦中克己）宣布，采用半導體制造光刻光源技術的GIGANEX系列新産品、KrF激光器“G300K”已于3月出廠。

KrF激光器“G300K”是以本公司光刻光源KrF激光器技術為基礎，將微燒蝕等“加工優化”作為理念，在保持高穩定性、99%以上運轉率以及高輸出的同時，實現了低價格的機型，從而為提高半導體制造後端工序中微燒蝕通孔加工工序的生産性以及降低成本提供了幫助。

由多個芯片構成的新一代半導體封裝不僅需要更小的外部尺寸，同時還需要維持較高的動作頻率、帶寬等，提高電力效率，保持低制造成本。近年來，為滿足這些要求，封裝技術的細化受到人們關注，因此，層間連接通孔的微小化也勢在必行。由于可以高速且低成本地進行加工，因此有機絕緣膜的微燒蝕通孔加工備受矚目，但具有有利于微細化的短波長以及兼備高輸出、高産量的248nm波長KrF准分子激光“G300K”可謂是作為光源的最佳選擇。

Gigaphoton董事長兼總經理浦中克己表示：“GIGANEX系列新産品、G300K能夠滿足客戶的廣泛需求，並為提高生産性及削減成本做出貢獻。廣泛領域的客戶對半導體制造以外領域的GIGANEX系列新技術解決方案寄于了厚望。今後我們將繼續努力，讓GIGANEX系列産品運用于全新應用領域，並為新一代産業界的發展做出貢獻。”

GIGAPHOTON公司簡介

GIGAPHOTON公司成立于2000年，作為一家激光器的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生産廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心，從産品研發到生産、銷售及維護，為用戶提供業界最高水准的支持。更為詳細的介紹請您訪問：www.gigaphoton.com。

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