GIGAPHOTON于今年8月份推出新型ArF幹式光刻光源「GT45A」

引入最先進的ArF浸沒式光刻光源技術，以滿足用戶的進一步需求

日本栃木縣小山市--(美國商業資訊)--半導體光刻光源制造商GIGAPHOTON株式會社(總部：栃木縣小山市、董事長兼總經理：浦中克己)宣布，新型ArF幹式光刻光源GT45A已于今年8月份上市。

在最先進的半導體制造工藝中，技術節點10/7nm(納米)的微細工藝成為主流，今後通過引入EUV光源的面向7nm以下的微細化技術將備受矚目。另一方面，隨著IoT的普及，14-65nm等技術成熟節點的需求將增加，預計可通過新投資來擴大生産能力和升級現有工廠進行應對。因此，需要進一步改進幹式曝光裝置，同時必須保證曝光裝置的高生産率和高運轉率(Availability)。

GT45A通過應用生産現場已引入的下述ArF浸沒式光刻光源技術，具備可以滿足用戶廣泛需求的功能擴展性。
・主要模塊的壽命比以往産品提高50%，實現光源的更高運轉，可以提高裝置運轉率。
・最大輸出功率達到90W，可以進一步提高生産率。
・支持4kHz~6kHz的重複頻率，可以滿足各種曝光機的要求，有助于提高曝光光學性能。

GIGAPHOTON董事長兼總經理浦中克己表示：“GT45A通過應用在開發ArF浸沒式光刻光源時培育的技術，可以針對廣泛的客戶需求，提供基于最先進技術的最佳解決方案。今後，GIGAPHOTON將繼續提供滿足客戶需求的最佳功能，為半導體制造行業做出更大的貢獻。”

GIGAPHOTON公司簡介

GIGAPHOTON公司成立于2000年，作為一家激光器的供應商，自成立以來一直為全球的半導體生産廠商提供有價值的解決方案。GIGAPHOTON時刻以客戶為中心，從産品研發到生産、銷售及維護，為用戶提供業界最高水准的支持。更為詳細的介紹請您訪問：https://www.gigaphoton.com/cs/

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