【財華社訊】1月27日,晶盛機電(300316.SZ)在互動平台表示,在芯片制造端,公司開發了應用於芯片制造的8-12英寸減壓外延設備、ALD設備等薄膜沉積類設備。其中12英寸減壓外延設備廣泛適用於邏輯芯片、存儲芯片、硅光芯片、功率器件中的各項制程;常壓外延設備適用於功率器件;ALD設備適用於邏輯芯片、存儲芯片中的各項制程。
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